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真空鍍鋁膜的生產工藝流程

真空鍍鋁膜的生產工藝流程為：基材放卷→抽真空→加熱蒸發(fā)舟→送鋁絲→蒸鍍→冷卻→測厚→展平→收卷；其真空鍍鋁方式有轉移法和直接蒸鍍法兩種。

（1） 轉移法是借助載體膜將金屬鋁層轉移到基材表面而形成真空鍍鋁膜的一種工藝。轉移法是在直接蒸鍍法基礎上發(fā)展起來的新工藝，它克服了直接蒸鍍法對基材要求的局限性，尤其適合于在各種紙及紙板上進行鍍鋁，也可用于塑料薄膜的鍍鋁。

（2）直接蒸鍍法是被鍍基材直接通過真空鍍膜機，將金屬鋁蒸鍍在基材表面而形成真空鍍鋁膜的一種工藝。直接蒸鍍法對基材的要求較高，尤其是表面要形成光亮的金屬膜時，需要求基材具有較好的表面平滑度。如果紙張的表面較粗糙，則采用直接蒸鍍法時，需要在鍍鋁前進行表面涂布。另，在蒸鍍過程中要求基材的揮發(fā)物要少。直接蒸鍍法主要適用于蒸鍍塑料薄膜，也可用于紙張的蒸鍍，但紙張的質量要求高，并對紙的定量有一定的限度；也就是說直接蒸鍍法對基材的適用范圍有較大的局限性。

真空鍍鋁對被鍍基材的要求：

（1）基材表面清潔光滑、平整、厚度均勻，即基材應具有一定的強度和表面平滑度；挺度和摩擦系數適當。

（2） 耐熱性好，基材經得起蒸發(fā)源的熱輻射和蒸發(fā)物的冷凝潛熱，基材含水量低于0.1%。。

（3）薄膜基材產生的揮發(fā)性物質要少；表面潤濕張力大于38dyn/cm。

（4）對鍍鋁層的粘接性良好；對于非極性材料，真空鍍鋁前應進行表面處理、以提高與鍍層的粘接性。

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怎么測量鍍鋁膜的厚度、牢度、均勻度

1、通常采用下述三種方法來測量鍍鋁膜的厚度：

A.光密度法:即以光線透過鍍鋁膜的密度來測量。用光密度法測量鍍鋁膜的厚度方便、準確。

B.采用表面方塊電阻測量法，這種方法比較簡單實用。通常來說，鋁層厚度對應的表面電阻一般在1~2之間。

C.目測估算法：即把兩層鍍鋁膜疊在一起對著日光燈或天空看，以看不見的光線為準，鍍層厚度應達400?以上。

2、鍍鋁牢度

一般是用膠帶來檢測鍍鋁牢度的。

具體方法為：把長約15cm的膠粘帶貼在鍍鋁面上并用手指壓平，然后用一只手壓住樣品，另一只手勻速剝離膠粘帶，再用帶強光的燈箱檢驗鋁層脫落轉移的情況便可。

或者把一種特別制備的試驗膜與PET鍍鋁膜按一定的熱封條件熱封，裁樣后再用拉伸試驗機剝離，彩色鍍鋁膜批發(fā)，測定剝離力并檢查熱封面積中的鋁層轉移情況。

3、鍍鋁膜鍍層的均勻度

電阻層電阻的偏差，實際就是反映了鍍鋁層的均勻度。沿被測樣品橫向等距離地取8~10個規(guī)格為100mm×100mm的試樣，用電阻測量儀分別測出方塊的電阻值，取其算數平均值，即為該試樣的鍍層電阻，再計算其電阻值的上、下偏差，便可知道鍍鋁膜鍍鋁層的均勻度。

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